煙氣分析儀器ENDA-C9000 O2
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仕様
ENDA-C9000シリーズラインアップ
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NH3 |
NOX |
O2 |
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C9120 |
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C9170 |
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C9170A |
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C9220 |
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C9330 |
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C9330A |
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C9430 |
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C9430A |
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*C9170, C9330, C9430はNH3觸媒に還元觸媒法を使用。
C9170A, C9330A, C9430AはNH3觸媒に酸化觸媒法を使用。
測(cè)定成分とレンジ
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成分 |
測(cè)定方法 |
標(biāo)準(zhǔn)レンジ |
オプションレンジ |
レンジ比 |
|---|---|---|---|---|
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NH3 |
化學(xué)発光法 |
20-100ppm |
10-20ppm未満 |
最大10倍 |
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NOX |
化學(xué)発光法 |
20-100ppm |
10-20ppm未満 |
最大10倍 |
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O2 |
磁気圧力法 |
5-25vol% |
- |
最大5倍 |
? レンジ數(shù)は各成分最大3レンジ ? O2を含む最大3成分同時(shí)測(cè)定
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-5～40°C仕様 |
40～50°C仕様 |
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|---|---|---|
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繰返し性 |
フルスケールの±0.5% |
フルスケールの±1.0% |
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ドリフト (NOX計(jì)として) |
ゼロドリフト標(biāo)準(zhǔn)レンジ： フルスケールの±1.0%/週 |
ゼロドリフト標(biāo)準(zhǔn)レンジ： フルスケールの±2.0%/週 |
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応答時(shí)間 |
裝置入口より Td+T90 90秒以下 |
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表示 |
タッチパネルによる畫(huà)面切り替え（測(cè)定畫(huà)面、校正レンジ?校正ガス?jié)舛仍O(shè)定畫(huà)面、校正周期設(shè)定畫(huà)面、保守畫(huà)面など） |
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サンプリング方式 |
露點(diǎn)2.5°C（電子冷卻器2 段、減圧サンプリング） |
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サンプルガス |
流量： 各ライン1.5 L/min 圧力： ± 10 kPa |
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圧力制御方式 |
調(diào)圧器による減圧サンプリング方式 |
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電源電圧 |
AC100V±15%、50/60Hz 共用 (47.5-63.0Hz) |
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校正 |
自動(dòng)校正方式（校正周期1?99 日） |
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寸法/質(zhì)量 |
800mm(W) × 800mm(D) × 1800mm(H) / 450kg (ボンベは除く) |
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設(shè)置條件 |
環(huán)境溫度：-5 °C?40°C 直射日光?輻射熱のないこと。 |
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サンプル條件 (還元觸媒法の時(shí)) |
溫度： 300～400°C ダスト：0.1 g/ Nm3以下 |
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外形寸法図?他（単位：mm）
